机生产的，而且对工艺要求很高，这需要高端光刻机。

倒是国内另外一些机构正在研发的光子量子计算机，虽然也需要光刻机来生产芯片，但是对光刻机的性能要求不算高。

而现在，随着这台第三代试验机的诞生，困扰智云集团，乃至困扰华夏电子工业的最后一道枷锁，就被彻底打破了。

所以现在徐申学最关心的问题就是：“这台原型机看起来已经相当成熟了，什么时候可以量产商用？”

海湾科技的ceo王道林道：“我们设计这台原型机的时候，就是奔着量产型号去的，从技术角度来说，我们已经打通了所有的技术环节，随时可以生产更多的heuv-300a型的光刻机，但是它毕竟只是一台原型机，纵然理论可行，但是实际长时间使用会暴露什么问题，这依旧不明确，我们依旧需要对它进行一定时间的各种测试，找出来潜在的诸多问题。”

”但是下个月开始，我们可以为智云微电子开始提供少量的实验机型，用来进行前期的测试工作！”

“正式量产型号的话，还需要看后续的测试工作是否顺利，需要多长时间，而这方面还需要智云微电子这边进行配合！”

这个时候，徐申学看向了一旁跟着来视察的智云微电子的ceo丁成军：“你们这边还需要多久才能搞定这些测试工作？”

丁成军斟酌着了会后道：“我们订购euv光刻机的话，必然是用在等效七纳米工艺以及未来的等效五纳米工艺之上的，目前我们的七纳米工艺的技术是建立在duv浸润式光刻机之上的，而这一套工艺和euv光刻机的工艺技术差别会很大！”

“之前我们虽然也获得了一些国外euv光刻机的秘密资料，也尝试进行了理论上的工艺开发准备工作，但是依旧很不完善！”

“当然，单纯光刻机测试工作我们有信心在一年内完成，euv光刻机的七纳米工艺有望在两年左右搞定！”

徐申学心中盘算了一番，这意味着明年冬天左右euv光刻机的量产型号，就能批量生产交付给智云微电子，等到后年下半年话应该就能完成euv光刻机等效七纳米工艺的技术认证，大后年初开始大规模投产。

进而取代现在死贵又不好用的duv浸润式光刻机的等效七纳米工艺。

这个时间表还可以接受。

至少比竞争对手asml加台积电要快……

为什么？

因为按照徐申学手底下情报部门的打听，asml那边的euv光刻机项目一直都谈不上多顺利……也不是说技术

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